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Distinct Effects of Cr Bulk Doping and Surface Deposition on the Chemical Environment and Electronic Structure of the Topological Insulator Bi2Se3

机译:Cr体掺杂和表面沉积对晶体的影响   拓扑绝缘子的化学环境与电子结构   Bi2se3

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摘要

In this report, it is shown that Cr doped into the bulk and Cr deposited onthe surface of Bi2Se3 films produced by molecular beam epitaxy (MBE) havestrikingly different effects on both the electronic structure and chemicalenvironment.
机译:在该报告中,表明了分子束外延(MBE)产生的Cr掺杂到块体中和Cr沉积在Bi2Se3膜的表面上对电子结构和化学环境都有明显不同的影响。

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